沐阳研究更新后的阅读系统两个多小时才研究透，兴奋得睡不着

    喝了一杯茶，他想看看芯片制造技术的核心设备：光刻机

    目前市场上，有两种主流光刻机，一个是DUV光刻机，另一个是EUV光刻机

DUV是深紫外线（DeepUltravioletLithography），EUV是极深紫外线（ExtreUltravioletLithography)

    从制程范围来看，DUV基本上只能做到25nIntel凭借双工作台的模式做到了10n但是却无法达到10n下

    只有EUV能满足10n下的晶圆制造，并且还可以向5n3n续延伸

    这个线宽其实就是跟光的线宽有关系，比如可见光的G线，那就是436n如果用来刻蚀，线路肯定很宽

    可以简单地认为，光刻机的光系统其实就是一支画笔，不同的光代表不同粗